Jednodeskové reaktory
ALD
MOCVD
ICP
Jsme výrobce zařízení pro polovodičový průmysl
Navrhujeme a vyrábíme horizontální i vertikální pece pro polovodičový a fotovoltaický průmysl. K ovládání těchto technologických zařízení jsme vyvinuli vlastní modulární řídící systém, který ale není omezen pro použití pouze v tom, co sami vyrábíme. Může dodat inteligenci i novým výrobním zařízením někoho jiného, nebo ji navrátit staršímu zařízení třeba i od konkurence.
Spolupracujeme s univerzitami a výzkumnými ústavy a dokážeme vyrobit i reaktory pro pilotní výrobu či prototypování od jednodeskových reaktorů po kompaktní stolní pece pro malovýrobu.
Pro polovodičový výzkum i výrobu je typické použití extrémně čistých médií v plynném, kapalném i tuhém skupenství a jejich ještě přesnější dávkování do procesů tvorby nejrůznějších tenkých vrstev. Pro jejich rozvod a dávkování vyrábíme řadu plynových a kapalinových skříní a rozvaděčů, či jen samostatných panelů určených k integraci do složitějších technologií. Důležitými stavebními kameny naší práce jsou dlouhodobě vybíraní dodavatelé těch nejkvalitnějších trubních komponent z různých částí světa a obchodní zastoupení všude tam, kde se o nanotechnologie zajímají.
V našem novém, moderním výrobním závodě disponujeme čistými výrobními prostory třídy ISO 6 (Class 1000) pro orbitální svařování a vlastní servisní a kalibrační laboratoří, kde můžeme provádět i akreditované kalibrace hmotnostních regulátorů průtoku dle dle ISO 17025.
Jsme součástí Asociace nanotechnologického průmyslu ČR
Tento projekt je spolufinancován se státní podporou Technologické agentury CR v rámci Programu Delta a Trend.
Vysokoteplotní zařízení pro aktivaci příměsi v polovodičových SiC substrátech.
Minimal Fab design systému depozice po atomárních vrstvách.
Výzkum a vývoj nového plazma aktivovaného ALD depozitního systému s unikátním zdrojem nízkoteplotního plazmatu na bázi mikrovlnného surfatronu a EWCR výboje.