Новая система плазмоактивированного ALD с уникальными источниками низкотемпературной плазмы

SVCS Process Innovation и ISAC Research вместе разрабатывают оборудование для процессов ALD и ALEt с плазменной активацией. Основой для разработки служит стандартный ALD реактор от ISAC, а системы генерации плазмы, газораспределительные системы и система управления будут предоставлены SVCS. Два типа микроволновых плазменных источников (сурфатрон и ECWR) будут опробованы для проведения процессов на 100 мм и 300 мм пластинах. Более того, разрабатываются реакционные камеры для 300 мм пластин, системы распределения прекурсоров и ламинаризатор газовых потоков.
В дальнейшем для реализации процессов ALD и ALEt будет разработано и внедрено специальное ПО, основанное на опыте предыдущих разработок SVCS и ISAC. Планируется использование различных методик для отладки процессов и оптимизации значения равномерности осаждаемых пленок как по пластине, так и от процесса к процессу.